Exploratory OML materials are unsupported and suitable for advanced Origin One users who need to access a more expansive portfolio of photopolymers. Materials developers currently contributing new open materials to the program include Covestro, Evonik, Arkema, Forward AM from BASF, Mechnano, Tethon 3D, Liqcreate, and polySpectra.
P3™ Stretch™ 80 es un elastómero de uso general y rápido de imprimir para DLP, un excelente sustituto del poliuretano tradicional o TPU. Obtenga más información
Somos® WeatherX 100 es un fotopolímero DLP ambientalmente sostenible desarrollado para la impresión 3D de piezas funcionales de uso final. Obtenga una pieza de muestra aquí >
Nuestro primer fotopolímero de Evonik es un material fuerte y resistente al calor ideal para aplicaciones en las que resulta crucial una combinación de resistencia a temperaturas altas y una buena elongación a quiebre. P3 Deflect 120 tiene baja viscosidad y alta resistencia verde, lo que lo hace adecuado para piezas con geometrías desafiantes, como carcasas de cableado, conectores o herramientas para moldes.
